先進封裝固化與烘烤設備
晶圓級與扇出型面板級封裝的 PI、PR 固化,對溫度均勻、腔體潔淨與爐內含氧量都有要求。偉勝以 HEPA 過濾與無塵化內部材料控制微粒來源,以氮氣迴路自動調整流量壓低含氧量,溫度均勻性可在運轉中調校,無塵低氧製程最高 450℃。設備可搭配 EFEM 與機械手臂上下料,以 SECS/GEM 接入工廠系統。從晶片與基板固化、晶圓烘烤到舊機聯網改造,皆依製程條件規劃,全機在台灣自有工廠製造。
製程挑戰
痛點 1:氧殘留影響膜層品質
PI 固化時爐內含氧偏高,易造成膜層變色與附著力下降。

痛點 2:微粒污染降低良率
爐體本身產生的微粒,會落在晶圓與基板表面。

痛點 3:溫度不均造成翹曲
大尺寸基板受熱不均,固化後易翹曲或硬化程度不一。

解決方案 1:低氧烘烤控制
氮氣迴路自動調整流量,含氧量最低 10ppm,減少膜層變色。

解決方案 2:潔淨腔體設計
HEPA 過濾與無塵化材料達 Class 4,減少晶圓落塵。

解決方案 3:運轉中調校均勻度
均勻度 ±1.5%,可不停機調校,減少基板翹曲。
關鍵能力
低氧烘烤控制
PI 固化對含氧敏感。以惰性氣體維持正壓,氮氣主、輔迴路自動切換流量,含氧量最低 10ppm,減少膜層氧化與變色。

降溫段維持低氧
冷卻夾層間接冷卻,降溫時不引入外氣,降低出爐前的氧化風險。

潔淨腔體
晶圓表面對微粒敏感。HEPA 過濾效率 99.97%,潔淨度最高 ISO14644-1 Class 4 @0.3µm,從腔體端減少落塵。

溫度均勻控制
大尺寸基板受熱不均易翹曲。均勻度 ±1.5%,運轉中即可調校,不必降溫停機。

自動化與通訊
支援 EFEM 與機械手臂上下料,以 SECS/GEM 接入工廠系統,溫度與 O2 濃度可上傳供回溯。
服務與實績
自動化整合
可搭配 AGV/RGV 或機械手臂,以 PLC 收集溫度、含氧量等數據,上傳至客戶伺服器。

舊機聯網升級
某晶圓測試廠的他牌烤箱無法聯網,達不到終端客戶的數據回溯要求。偉勝到現場加裝 PLC,建置中央伺服器與監控介面;設備不離廠、每次只停一台,省下至少 3 天到 1 週停機時間,原烘烤配方不需重調。

設備資安
聯網設備的資安:2024 年取得 SEMI E187 資安驗證,2025 年取得 ISO/IEC 27001:2022。

客製與實績
製程條件評估、設計製造到維修保養由偉勝完成,全機台灣生產。設備已供應國內封測大廠與載板廠,2024 年獲台灣精品獎。